直讀光譜儀的結果判定，通常采取下面的方法來驗證。其一，用準確的化學方法與直讀的結果進行對比。其二，用熟悉已知的標準樣品進行確認，比較化學值與直讀的結果即可。為了使分析結果更準確，必須盡量減小誤差。要減小誤差必須要對光電直讀光譜分析時的系統誤差和偶然誤差的來源進行探討，從而更有針對性的尋找減少誤差的方法，來提高分析結果的準確度。

系統誤差的來源 (1)分析試樣和標準樣品的組織狀態不同。在做固體金屬材料分析時，分析試樣和標準樣品的組織狀態不同是經常存在的(如澆鑄狀態的鋼樣與經過退火、淬火、回火、熱軋、鍛壓等狀態的鋼樣金屬組織結構是不相同的);因為組織結構的不同，在光電直讀光譜分析中某些元素測定的結果也不盡相同，從而引人了系統誤差。(2)試樣中除基體元素和分析元素以外的其他元素干擾。若標樣和試樣中的第三元素的含量和化學組成不完全相同，亦有可能引起基體線和分析線的強度改變，從而引人系統誤差。(3)光譜標樣在化學分析定值時帶來的系統誤差。(4)未知元素譜線的重疊干擾。 (5)氫氣不純。當氫氣中含有氧和水蒸氣時，使激發斑點變壞;或氫氣管道與電極架有污染物排不出去，或有濁漏時，使分析結果變差，從而引人系統誤差。(6)鎢電極的影響。鎢電極的應當具有一定角度使光軸不得偏離ZX，放電間隙應當保持不變，否則聚焦在分光儀的譜線強度會改變。如:重復放電以后，鎢電極會長尖，改變了間隙放電距離;激發產生的金屬蒸氣也會污染透鏡表面，它們都能引人系統誤差。所以必須每激發一次后就要用刷子清理電極。 (7)透鏡的影響。透鏡內表面用來保持真空，常常受到來自真空泵油蒸氣的污染，外表面受到分析時產生金屬蒸氣的附著。使透過率明顯的降低，對鎮200 nm的碳、硫、磷譜線的透過率顯著降低。工作曲線的斜率降低，所以聚光鏡要進行定期清理。度，偶然誤差小，再現性(精密度)高。當沒有系統誤值與真值之間的差值。根據誤差的性質及其產生原  (8)電源電壓的影響。電源電壓的變化容易引起激發單元放電電壓的改變，電源電壓波動要求在10寫以內。 (9)分析過程中，工作條件等的變化沒有覺察出來，也會產生系統誤差。

偶然誤差的來源 ：(1)試樣成分不均勻。因為光電光譜分析所消耗的樣品很少，樣品中元素分布的不均勻性、組織結構的不均勻性，導致不同部位的分析結果不同。不均勻性的主要原因是:冶煉過程中帶人夾雜物;在樣品熔煉過程中產生的偏析，造成樣品元素分布不均;試樣加工過程中夾人的砂粒和金屬元素、磨樣紋路出現交叉、試樣磨樣時過熱、試樣磨面放置時間太長和壓上指紋等因素;試樣在取樣冷卻過程中的缺陷，如:氣孔、裂紋、砂眼等。 (2)試樣表面不平整。當試樣放在電極激發臺上時，不能有漏氣現象。如有漏氣，激發光室氣壓不穩定，激發試樣的聲音也不正常，激發斑點變白，影響分析結果。(3)試樣厚度較薄。當試樣厚度較薄，磨樣時容易過燒，且激發試樣時容易激穿;由于太薄，試樣表面也很難平整，也影響薄樣所測結果。(4)分析樣品與控制標樣操作不一致。磨樣紋路粗細要一致，不可有交叉紋，磨樣用力不要過大，而且用力要均勻，力求操作一致，用力過大時，試樣磨樣過熱，容易造成試樣表面氧化。(5)試樣不具備一定代表性。如有偏析、裂紋、氣孔等缺陷。

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